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GB/T 32815-2016 硅基MEMS制造技术 体硅压阻加工工艺规范

Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for criterion of the bulk silicon piezoresistance process
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 32815-2016
  • 名称：
    硅基MEMS制造技术 体硅压阻加工工艺规范
  • 英文名称：
    Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for criterion of the bulk silicon piezoresistance process
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2016-08-29
  • 实施日期：
    2017-03-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《几何光学术语、符号》等319项国家标准的公告】
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分类信息
  • ICS分类：
    【 电子学（31） 集成电路、微电子学（31.200） 】
  • CCS分类：
    【 电子元器件与信息技术（L） 微电路（L55/59） 微电路综合（L55） 】
  • 行标分类：
    暂无
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    本标准规定了采用体硅压阻工艺进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求和质量检验要求。
    本标准适用于硅基MEMS制造技术中基于背腔腐蚀和硅玻璃键合的体硅压阻加工工艺的加工和质量检验。
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 19022 GB/T 26111 GB 50073
相关部门
  • 起草单位：
    大连理工大学 北京大学 中机生产力促进中心 东南大学 北京青鸟元芯微系统科技有限公司
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位：
    全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
相关人员
暂无
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