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GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

Magnetron sputtering ruthenium target
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 34649-2017
  • 名称：
    磁控溅射用钌靶
  • 英文名称：
    Magnetron sputtering ruthenium target
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2017-09-29
  • 实施日期：
    2018-04-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《小型游乐设施安全规范》等237项国家标准和3项国家标准修改单的公告】
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分类信息
  • ICS分类：
    【 冶金（77） 有色金属产品（77.150） 其他有色金属产品（77.150.99） 】
  • CCS分类：
    【 冶金（H） 有色金属及其合金产品（H60/69） 贵金属及其合金（H68） 】
  • 行标分类：
    暂无
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钌靶（以下简称钌靶）。
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 1804 GB/T 5163 GB/T 6394 GB/T 14265 GB/T 23275 YS/T 837
相关部门
  • 起草单位：
    有色金属技术经济研究院 有研亿金新材料有限公司
  • 归口单位：
    全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
  • 主管部门：
    全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
  • 提出部门：
    中国有色金属工业协会
相关人员
暂无
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