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GB/T 34900-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法
Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
基本信息
-
标准号:
GB/T 34900-2017
-
名称:
微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法
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英文名称:
Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
-
状态:
现行
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类型:
国家标准
-
性质:
推荐性
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发布日期:
2017-11-01
-
实施日期:
2018-05-01
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废止日期:
暂无
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相关公告:
实施公告【关于批准发布《标准电压》等585项国家标准和2项国家标准修改单的公告】
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电子学(31)
集成电路、微电子学(31.200)
】
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【
电子元器件与信息技术(L)
微电路(L55/59)
微电路综合(L55)
】
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行标分类:
暂无
描述信息
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