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GB/T 34893-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法

Micro-electromechanical system technology—Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 34893-2017
  • 名称:
    微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法
  • 英文名称:
    Micro-electromechanical system technology—Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2017-11-01
  • 实施日期:
    2018-05-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    实施公告【关于批准发布《标准电压》等585项国家标准和2项国家标准修改单的公告】
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分类信息
  • ICS分类:
    电子学(31) 集成电路、微电子学(31.200)
  • CCS分类:
    电子元器件与信息技术(L) 微电路(L55/59) 微电路综合(L55)
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    本标准规定了基于光学干涉显微镜获取MEMS微结构表面形貌进行面内长度测量的方法。本标准适用于表面反射率不低于4%,宽深比不低于1∶10,且使用光学干涉显微镜能够获取形貌的MEMS微结构。
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
  • 引用标准:
    GB/T 3505 GB/T 26111 GB/T 26113
相关部门
  • 主管部门:
    国家标准化管理委员会
  • 起草单位:
    中机生产力促进中心 天津大学 国家仪器仪表元器件质量监督检验中心 南京理工大学中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 归口单位:
    全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
相关人员
暂无
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