收藏到云盘
纠错反馈

GB/T 35309-2017 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程

Practice for evaluation of granular polysilicon by melter-zoner and spectroscopies
基本信息
分类信息
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    本标准规定了用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的代位碳原子浓度、施主杂质浓度和受主杂质浓度的方法。本标准适用于尺寸为600 μm～3 000 μm的颗粒状多晶硅，其他尺寸的颗粒状多晶硅可参照本标准执行。
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 620 GB/T 622 GB/T 626 GB/T 1558 GB/T 4059 GB/T 4842 GB/T 6679 GB/T 11446.1 GB/T 14264 GB/T 24581 GB/T 25915.1 GB/T 29057
相关部门
  • 归口单位：
    2) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 起草单位：
    新特能源股份有限公司 江苏中能硅业科技发展有限公司 洛阳中硅高科技有限公司 青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司 天津市环欧半导体材料技术有限公司
相关人员
暂无
关联标准