• 当前位置：
    首页 规范标准 GB/T 12964-2018 硅单晶抛光片
收藏到云盘
纠错反馈

GB/T 12964-2018 硅单晶抛光片

Monocrystalline silicon polished wafers
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 12964-2018
  • 名称：
    硅单晶抛光片
  • 英文名称：
    Monocrystalline silicon polished wafers
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2018-09-17
  • 实施日期：
    2019-06-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《中小学校普通教室照明设计安装卫生要求》等454项国家标准和6项国家标准修改单的公告】
    • 阅读或下载 使用APP、PC客户端等功能更强大
    • 网页在线阅读 体验阅读、搜索等基本功能
    • 用户分享资源 来自网友们上传分享的文件
    • 纸书购买 平台官方及网友推荐
分类信息
  • ICS分类：
    【 电气工程（29） 半导体材料（29.045） 】
  • CCS分类：
    【 冶金（H） 半金属与半导体材料（H80/84） 元素半导体材料（H82） 】
  • 行标分类：
    暂无
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    本标准规定了硅单晶抛光片（简称硅抛光片）的牌号及分类、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。本标准适用于直拉法、悬浮区熔法（包括中子嬗变掺杂和气相掺杂）制备的直径不大于200 mm的硅单晶抛光片。产品主要用于制作集成电路、分立元件、功率器件等，或作为硅外延片的衬底。
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 代替标准：
    GB/T 12964-2003
  • 引用标准：
    GB/T 1550 GB/T 2828.1-2012 GB/T 4058 GB/T 6616 GB/T 6618 GB/T 6619 GB/T 6620 GB/T 6621 GB/T 6624 GB/T 11073 GB/T 12962 GB/T 12965 GB/T 14264 GB/T 14844 GB/T 19921 GB/T 24578 GB/T 29507 GB/T 32279 GB/T 32280 YS/T 26 YS/T 28 YS/T 679
相关部门
  • 归口单位：
    2) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) 203/SC 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC
  • 起草单位：
    有色金属技术经济研究院 有研半导体材料有限公司 浙江金瑞泓科技股份有限公司 上海合晶硅材料有限公司 浙江海纳半导体有限公司 浙江省硅材料质量检验中心 天津市环欧半导体材料技术有限公司
  • 主管部门：
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/T
相关人员
暂无
关联标准
  • YS/T 15-1991 硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法
  • GB/T 16596-2019 确定晶片坐标系规范
  • YS/T 43-1992 高纯砷
  • SJ/T 11492-2015 光致发光法测定磷镓砷晶片的组分
  • GB/T 26066-2010 硅晶片上浅腐蚀坑检测的测试方法
  • GB/T 29054-2012 太阳能级铸造多晶硅块
  • GB/T 25074-2010 太阳能级多晶硅
  • T/IAWBS 001-2017 碳化硅单晶
  • GB/T 31476-2015 电子装联高质量内部互连用焊料
  • YS/T 986-2014 晶片正面系列字母数字标志规范
  • GB/T 35307-2017 流化床法颗粒硅
  • YS/T 1510-2021 高纯锗粉
  • GB/T 29851-2013 光伏电池用硅材料中B、Al受主杂质含量的二次离子质谱测量方法
  • YS/T 23-1992 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法
  • GB/T 6616-2009 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法
  • GB/T 26072-2010 太阳能电池用锗单晶
  • GB/T 29505-2013 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
  • YS/T 13-2015 高纯四氯化锗
  • SJ/T 11487-2015 半绝缘半导体晶片电阻率的无接触测量方法
  • GB/T 17170-1997 非掺杂半绝缘砷化镓单晶深能级EL2浓度红外吸收测试方法
用户分享资源

GB/T 12964-2018 硅单晶抛光片

Monocrystalline silicon polished wafers 上传文件 注:本列表内文件主要来源于网友们的分享上传。如您发现有不正确不合适的内容，请及时联系客服
纠错反馈
GB/T 12964-2018 硅单晶抛光片
提交反馈
分类列表
确定
上传文件
完全匿名 前台匿名 显示用户名 点击选择文件
{{uploadFile.name}} {{uploadFile.sizeStr}}
目前支持上传小于100MB的PDF、OCF、OCS格式文件
注:您上传文件即代表同意平台可以公开给所有用户下载。平台会根据您的选择及实际情况，为您发放相应的直接或分成奖励。平台也可以根据实际情况需要，对您上传到服务器的文件进行调整隐藏删除等，而无需通知到您。
联系客服

纸书购买链接招商中，联系客服入驻

客服QQ： 2449276725 1455033258

1098903864 1969329120

客服电话：0379-80883238

电子邮箱：ocsyun@126.com