收藏到云盘
纠错反馈
GB/T 4060-2018 硅多晶真空区熔基硼检验方法
Test method for boron content in polycrystalline silicon by vacuum zone-melting method
基本信息
分类信息
-
ICS分类:
【
冶金(77)
金属材料试验(77.040)
】
-
CCS分类:
【
冶金(H)
金属化学分析方法(H10/19)
半金属及半导体材料分析方法(H17)
】
-
行标分类:
暂无
描述信息
相关标准
相关部门
-
归口单位:
2)
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC
203)
203/SC
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC
-
主管部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC
203)
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/T
-
起草单位:
江苏中能硅业科技发展有限公司
亚洲硅业(青海)有限公司
洛阳中硅高科技有限公司
峨嵋半导体材料研究所
相关人员
关联标准
-
DB53/T 728-2015
云南省锌物料中铟含量的测定 原子吸收分光光度法
-
YB/T 136-1998
镀锡钢板(带)表面油和铬的试验方法
-
GB/T 34504-2017
蓝宝石抛光衬底片表面残留金属元素测量方法
-
YB/T 153-1999
优质碳素结构钢和合金结构钢连铸方坯低倍组织缺陷评级图
-
YS/T 226.4-2009
硒化学分析方法 第4部分:汞量的测定 双硫腙-四氯化碳滴定比色法
-
YS/T 226.9-1994
硒中氯量的测定(硫氰酸汞吸光光度法)
-
YS/T 519.4-2009
砷化学分析方法 第4部分:铋、锑、硫量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
-
GB/T 40279-2021
硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
-
SN/T 2081-2008
氧化铝中杂质元素含量的测定 微波溶样ICP-AES法
-
YS/T 226.9-2009
硒化学分析方法 第9部分:铁量的测定 火焰原子吸收光谱法
-
GB/T 14849.1-2020
工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定
-
YS/T 1059-2015
硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法
-
YS/T 226.14-1994
硒中碳量的测定(燃烧电导法)
-
GB/T 34481-2017
低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度(EPD)的测量方法
-
GB/T 11111-1989
钨丝电阻连续测量方法
-
YS/T 1434-2021
六氯乙硅烷组分含量的测定?气相色谱法
-
YS/T 226.10-2009
硒化学分析方法 第10部分:镍量的测定 火焰原子吸收光谱法
-
GB/T 4059-2007
硅多晶气氛区熔基磷检验方法
-
GB/T 32188-2015
氮化镓单晶衬底片x射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法
-
YB 4052-1991
高镍铬无限冷硬离心铸铁轧辊金相检验