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GB/T 1557-2018 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
Test method for determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption基本信息
- 标准号:GB/T 1557-2018
- 名称:硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
- 英文名称:Test method for determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption
- 状态:现行
- 类型:国家标准
- 性质:推荐性
- 发布日期:2018-09-17
- 实施日期:2019-06-01
- 废止日期:暂无
- 相关公告:
分类信息
- ICS分类:【 】
- CCS分类:【 】
- 行标分类:暂无
描述信息
- 前言:暂无
- 适用范围:本标准规定了采用红外光谱法测定硅单晶晶体中间隙氧含量的方法。本标准适用于室温电阻率大于0.1 Ω·cm的N型硅单晶和室温电阻率大于0.5 Ω·cm的P型硅单晶中间隙氧含量的测定。以常温红外设备测试时,氧含量(原子数)测试范围从1×1016 cm-3到硅中间隙氧的最大固溶度;以低温红外设备测试时,氧含量(原子数)的测试范围从0.5×1015 cm-3到硅中间隙氧的最大固溶度。
- 引用标准:暂无
相关标准
- 代替标准:GB/T 1557-2006
- 引用标准:GB/T 4059 GB/T 4060 GB/T 14264 GB/T 29057 GB/T 35306 ASTM E131
相关部门
- 归口单位:2) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) 203/SC 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC
- 起草单位:有研半导体材料有限公司 新特能源股份有限公司 亚洲硅业(青海)有限公司 宜昌南玻硅材料有限公司 北京合能阳光新能源技术有限公司 峨嵋半导体材料研究所 隆基绿能科技股份有限公司 内蒙古盾安光伏科技有限公司
- 主管部门:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/T
相关人员
暂无
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