收藏到云盘
纠错反馈
GB/T 37053-2018 氮化镓外延片及衬底片通用规范
General specification for epitaxial wafers and substrates based on gallium nitride
基本信息
分类信息
-
ICS分类:
【
电气工程(29)
半导体材料(29.045)
】
-
CCS分类:
【
冶金(H)
半金属与半导体材料(H80/84)
化合物半导体材料(H83)
】
-
行标分类:
暂无
描述信息
相关标准
相关部门
相关人员
关联标准
-
YS/T 99-1997
三氧化二砷
-
GB/T 24582-2009
酸浸取 电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质
-
GB/T 1554-2009
硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
-
GB/T 1553-2009
硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法
-
GB/T 30866-2014
碳化硅单晶片直径测试方法
-
GB/T 30656-2014
碳化硅单晶抛光片
-
GB/T 14146-2009
硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法
-
YS/T 988-2014
羧乙基锗倍半氧化物
-
YS 68-2004
砷
-
GB/T 11094-2007
水平法砷化镓单晶及切割片
-
GB/T 29054-2012
太阳能级铸造多晶硅块
-
YS/T 543-2015
半导体键合用铝-1%硅细丝
-
GB/T 20229-2022
磷化镓单晶
-
GB/T 40561-2021
光伏硅材料 氧含量的测定 脉冲加热惰性气体熔融红外吸收法
-
YS/T 986-2014
晶片正面系列字母数字标志规范
-
SJ/T 11502-2015
碳化硅单晶抛光片规范
-
GB/T 26071-2010
太阳能电池用硅单晶切割片
-
YS/T 985-2014
硅抛光回收片
-
YS/T 1160-2016
工业硅粉定量相分析 二氧化硅含量的测定 X射线衍射K值法
-
YS/T 724-2016
多晶硅用硅粉