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GB/T 11094-2020 水平法砷化镓单晶及切割片

Gallium arsenide single crystal and cutting wafer grown by horizontal bridgman method
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 11094-2020
  • 名称:
    水平法砷化镓单晶及切割片
  • 英文名称:
    Gallium arsenide single crystal and cutting wafer grown by horizontal bridgman method
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2020-09-29
  • 实施日期:
    2021-08-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    实施公告【关于批准发布《金属材料 夏比摆锤冲击试验方法》等106项推荐性国家标准和5项国家标准修改单的公告】
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分类信息
  • ICS分类:
    电气工程(29) 半导体材料(29.045)
  • CCS分类:
    冶金(H) 半金属与半导体材料(H80/84) 化合物半导体材料(H83)
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    本标准规定了水平法砷化镓单晶(以下简称砷化镓单晶)及切割片的牌号及分类、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。
    本标准适用于光电器件、传感元件等用的砷化镓单晶及切割片。
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
  • 代替标准:
    GB/T 11094-2007
  • 引用标准:
    GB/T 1555 GB/T 2828.1-2012 GB/T 4326 GB/T 8760 GB/T 13388 GB/T 14264 GB/T 14844
相关部门
  • 归口单位:
    2) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC
  • 起草单位:
    有色金属技术经济研究院 北京聚睿众邦科技有限公司 有研光电新材料有限责任公司 雅波拓(福建)新材料有限公司 广东先导先进材料股份有限公司
  • 发布部门:
    国家标准化管理委员会
相关人员
暂无
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