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GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
基本信息
-
标准号:
GB/T 39145-2020
-
名称:
硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
-
英文名称:
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
-
状态:
现行
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类型:
国家标准
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性质:
推荐性
-
发布日期:
2020-10-11
-
实施日期:
2021-09-01
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废止日期:
暂无
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相关公告:
实施公告【关于批准发布《标准轨距铁路限界第1部分:机车车辆限界》等106项国家标准和2项国家标准修改单的公告】
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冶金(77)
金属材料试验(77.040)
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冶金(H)
金属化学分析方法(H10/19)
半金属及半导体材料分析方法(H17)
】
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