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GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
基本信息
-
标准号：
GB/T 39145-2020
-
名称：
硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
-
英文名称：
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
-
状态：
现行
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类型：
国家标准
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性质：
推荐性
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发布日期：
2020-10-11
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实施日期：
2021-09-01
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废止日期：
暂无
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相关公告：
实施公告【关于批准发布《标准轨距铁路限界第1部分：机车车辆限界》等106项国家标准和2项国家标准修改单的公告】
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冶金（77）
金属材料试验（77.040）
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冶金（H）
金属化学分析方法（H10/19）
半金属及半导体材料分析方法（H17）
】
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暂无
描述信息
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