GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法

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Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry

基本信息

标准号：

GB/T 39145-2020
名称：

硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法
英文名称：

Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
状态：

现行
类型：

国家标准
性质：

推荐性
发布日期：

2020-10-11
实施日期：

2021-09-01
废止日期：

暂无
相关公告：

实施公告【关于批准发布《标准轨距铁路限界第1部分：机车车辆限界》等106项国家标准和2项国家标准修改单的公告】

分类信息

描述信息

前言：

暂无
适用范围：

本标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。
本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元素含量的测定，测定范围为108 cm-2～1013 cm-2。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。
注:硅片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。
引用标准：

暂无